第八十四章 见证历史14纳米轻舟处理器问世（1/2）
“林首席，一号光掩膜版已清洗完成！”
“二号光掩膜版也清洗完成！”
“报告林首席，经过反复确认，第一组光掩膜版表面未发现有灰尘遮挡，可以进行试生产了！”
“林首席，20纳米制程光刻机参数已调试完成，请指示！”
龙国魔都。
龙芯国际实验基地。
林天身披白大褂，坐在椅子上翘着二郎腿，他面前是一群正在忙碌的光刻工程师。
在他旁边，光刻领域院士冯承铭激动地搓了搓手，将自己姿态摆低道：“林首席，光掩膜版和光刻机都准备好了，您看我们是不是应该试着量产芯片了？”
他语气柔和，并不像是长辈对晚辈的那种柔和，而是学生面见尊师的语气。
谁也不知道这段时间，冯承铭与一众龙芯国际工程师到底经历了什么，居然会对一位二十出头的年轻人这般姿态。
林天掏出手机看了眼日期，喃喃自语道：“12月6号，不多不少，正好花了50天时间，今天那位荷兰工程师没有来吧？”
“曲老他们已经把他支开了。”
冯承铭快速回答。
荷兰工程师，买20纳米制程光刻机赠送的。
可别觉得荷兰ASML公司好心，卖光刻机还附赠几个工程师，实则这些人是来监督机器运行的。
他们的工作内容就是什么也不用干，但龙芯国际要给他们发工资，而且他们还有锁设备的权限。
说直白点。
你花了钱，你还不能随便用，而且人家想让你停就停。
这种管理模式不止光刻机领域，高精度机床、重型机械、汽车生产设备等，原厂家都会配备几个白吃白喝的工程师。
他们就监督设备的使用，但凡移动了丁点位置，一些联网设备还具备自动上锁的功能，如果被锁，还需要求助“原厂工程师”才能解开设备锁。
想不被监控？
要么买落后版本的设备，要么直接就不买。
可龙国想发展、龙国本土企业想发展就不能不买，只能接受这样憋屈的管理模式。
因为这些荷兰工程师不懂光刻，这五十天龙芯国际工程师团队在捣鼓什么，他们完全不了解，也不想去了解。
荷兰ASML公司派给他们的任务就两个，监控龙芯国际用20纳米制程光刻机运行，报告光刻机的生产任务内容。
这也就是说，龙芯国际生产什么类型的芯片，有什么新技术都逃不过西方的监控。
不过！值得一提的是，14纳米芯片生产不一定非要用20纳米制程光刻机，28纳米制程的光刻机照样可以生产。
这次使用20纳米制程光刻机，纯属林天想快点生产第一批14纳米轻舟处理器给陈星送过去，方便后续的新旗舰发布会召开。
现在已经12月6号了，距离12月12号仅剩6天时间，他必须抓紧时间生产，赶在9号前把轻舟处理器芯片送过去。
当听见已经支开今天的荷兰工程师，林天站起身扫视龙芯国际的工程师一圈说道：
“注意看，我只教一次，能学到多少，能掌握多少全看你们自己的天赋了。”
论天赋，这里的所有工程师都是天才，是龙国各个省份走出来的状元郎。
“好的林首席！”
“林首席我记性比较差，可以录像吗？”
“要是我们能掌握多重曝光技术的要点，那就相当于突破了理论7纳米级芯片工艺！”
“开始吧林首席！”
工程师们纷纷附和着。
五十天的时间，从默默无闻的黄毛小年轻，到如今龙芯国际的光刻名誉首席，虽然没有正式通告，但这已经是默认的事实了。
能让这么多天才，乃至院士都折服的林天只做了一件事，那就是流片时，他不仅操作行云流水，理论知识更是扎实，可以做到全方面解答遇到的问题，光掩膜版也在他带领下顺利完成，整个过程没有半点的失误。
冯承铭向前一步，看向一众龙芯国际工程师道：“都认真看，林首席不可能一直在这里教我们，听懂了吗？”
“懂了冯首席。”
“听明白了。”
“知道了冯首席。”
龙芯国际的工程师纷纷应答，他们现在都恨不得在自己眼睛装上摄像头。
“走吧，赶时间。”林天往更衣室走去。
进入光刻机区域，必须穿着防尘服，任何一丝灰尘，都有可能影响最终生产。
几十位龙芯国际的工程师，紧随其后。
另一边。
龙芯国际总部会谈室。
顶着两个大眼袋，双鬓已经灰白的曲程倒着茶水，笑呵呵道：“拉比兹先生，试试我托人带来的正宗老班章。”
在他的身侧，高永明打着助攻道：“曲老真是大气啊，这块老班章收藏有十年了吧？”
曲程瞥了他一眼，淡淡说道：“正好十年。”
坐在对面，金发碧眼，身形消瘦的拉比兹一惊，用蹩脚的感谢道：“虽然我不懂茶叶，但收藏了十年，那这个肯定是好东西。”
“那是自然。”
曲程面无表情，淡淡回复。
拉比兹听后，也是拿起茶杯细细品鉴道：“嗯好浓的茶香，而且喝下去以后还有股甜味，这就是你们龙国人说的回甘是吗？”
“没错，这就是正宗老班章才有的回甘。”
曲程搭话道。
坐在一侧的高永明嘴唇轻微蠕动，牙齿不断咬着内唇，用痛觉来消减笑意。
十年老班章？
怎么可能给你喝真的！
对于这位白吃白喝，负责监控他们使用光刻机的“活体监控摄像头”，不给你喝毒药就不错了，还给你喝十年老班章。
不过让高永明没想到的是，他曲程一把年纪了，居然这么损，戏还演的那么好。
二十块买的工业茶，硬是说成正宗老班章。
“啊！”
在喝了第二杯后，拉比兹也开门见山道：“两位找我，应该不只是喝茶吧？”
“对，找你订购光刻机。”曲程不紧不慢说道。
高永明见进入正题，也说出目的道：“我们想再订一台20纳米制程的光刻机。”
“噢？你要扩大生产？”
拉比兹看向高永明询问道。
高永明点了点头，想着怎么拖延时间道：“想试试接20纳米的订单，哦对了，14纳米的EUV光刻机你看能”
话音未落，拉比兹打断道：“抱歉高总，EUV光刻机可不是我能够说了算的，你们自己也很清楚，到底是谁在限制你们。”
“说得也对，我们还是继续谈20纳米制程的DUV光刻机吧。”曲程打了个圆场道。
两人的任务很简单，就是拖延足够多的时间。
等另一位荷兰工程师来交班，估计就差不多了，现在就拼命拖延就完事了。
芯片生产车间。
20纳米制程光刻机内部。
第一块光掩膜版已经安装，光刻机镜头正射出193纳米波长的深紫外光光源，每次曝光，都会在底部的晶圆片上刻出设计好的芯片电路图案。
随着移动平台的不断移动，以及光刻机镜头的不断曝光，晶圆片被刻上了密密麻麻的芯片电路图，如果是生产20纳米芯片，现在就已经完成光刻，可以直接送交切割封装检测了。
但用DUV光刻机生产14纳米芯片，一次曝光根本不能满足需求，需要二次曝光。
“取出第一块光掩膜版，安装第二块光掩膜版。”林天目光看向冯承铭说道。
冯承铭立马照做。
当第二块光掩膜版放入光刻机镜头处，林天开始亲自校准，并讲解道：“听好了，多重曝光技术难的点在于晶圆对齐，如果两次的点位出现偏差，第二次曝光将会损坏第一次曝光留下的电路图案，因此要多加小心。”
在确认没问题以后，他看向冯承铭道：“二次涂抹光刻胶，进行二次曝光步骤。”
“明白了。”
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